Diseño y caracterización del proceso de deposición por L.P.C.V.D. del SiO2 dopado para su utilización en tecnologías U.L.S.I
Autor (es)
Paule Vazquez, EliasDirector (es)
Martínez-Duart, José ManuelEntidad
UAM. Departamento de Física AplicadaFecha de edición
1992-06-12Materias
Nitruro de silicio - Tesis doctorales; FísicaNota
Tesis doctoral inédita leida en la Universidad Autónoma de Madrid, Facultad de Ciencias, Departamento de Física Aplicada. Fecha de lectura: 12-6-1992Lista de ficheros
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