Incorporación de metal en capas de carbono amorfo hidrogenado mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma de resonancia ciclotrónica de electrones = Metal incorporation in hydrogenated amorphus carbon films deposited by biased electron cyclotron resonance chemical vapour deposition

dc.contributor.advisor	Gómez-Aleixandre Fernández, Cristina
dc.contributor.advisor	Buijnsters, Josephus Gerardus
dc.contributor.author	Pardo Pérez, Ainhoa
dc.contributor.other	Universidad Autónoma de Madrid. Departamento de Física Aplicada
dc.contributor.other	CSIC. Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM)
dc.date.accessioned	2014-02-18T08:48:16Z
dc.date.issued	2012
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10486/12299
dc.description	Tesis doctoral inédita de la Universidad Autónoma de Madrid. Facultad de Ciencias, Departamento de Física Aplicada. Fecha de lectura: 21-06-2012
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.language.iso	eng
dc.subject	Nanotecnología - Tesis doctorales
dc.subject	Nanostructuras - Tesis doctorales
dc.title	Incorporación de metal en capas de carbono amorfo hidrogenado mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma de resonancia ciclotrónica de electrones = Metal incorporation in hydrogenated amorphus carbon films deposited by biased electron cyclotron resonance chemical vapour deposition
dc.type	doctoralThesis
dc.rights.accessRights	openAccess	en
dc.facultadUAM	Facultad de Ciencias

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