Oxidación en plasma del Si y de los siliciuros de Ti y W
Author
Pérez Casero, RafaelEntity
UAM. Departamento de Física AplicadaDate
1989-11-29Subjects
Plasma (Gases ionizados) - Tesis doctorales; Silicio - Oxidación - Tesis doctorales; Siliciuros - Oxidación - Tesis doctorales; Láminas delgadas - Tesis doctorales; Semiconductores - Tesis doctorales; FísicaNote
Tesis doctoral inédita leída en la Universidad Autónoma de Madrid, Facultad de Ciencias, Departmento de Física Aplicada. Fecha de lectura: 29-11-1989Files in this item
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