Diseño y caracterización del proceso de deposición por L.P.C.V.D. del SiO2 dopado para su utilización en tecnologías U.L.S.I
Author
Paule Vazquez, EliasAdvisor
Martínez-Duart, José ManuelEntity
UAM. Departamento de Física AplicadaDate
1992-06-12Subjects
Nitruro de silicio - Tesis doctorales; FísicaNote
Tesis doctoral inédita leida en la Universidad Autónoma de Madrid, Facultad de Ciencias, Departamento de Física Aplicada. Fecha de lectura: 12-6-1992Files in this item
Google Scholar:Paule Vazquez, Elias
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